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Stelle frei: Ab sofort
Promotion
Befristete Anstellung
Baden-Württemberg
Eintrag vom 12.08.2026
Angebotsnr. 120600
Angebotsnr. 120600
Stellenbeschreibung
Die Anforderungen an zukünftige digitale Systeme wachsen rasant: Höhere Bitraten und steigende Leistungsfähigkeit erfordern neue Halbleiterkonzepte. Eine Schlüsseltechnologie hierfür sind skalierte High-Electron-Mobility-Transistoren (HEMTs) auf Gallium-Nitrid-Basis (GaN), die neue Möglichkeiten für digitale Höchstfrequenzschaltungen und leistungsfähige Verstärker eröffnen.
Im Rahmen dieser Promotion erforschen Sie innovative GaN-HEMT-Technologien und leisten einen Beitrag zur Entwicklung der nächsten Generation digitaler III-V-Halbleiterbauelemente. Ziel Ihrer wissenschaftlichen Arbeit ist es, ein tiefes qualitatives und quantitatives Verständnis neuartiger Prozessmodule – insbesondere in den Bereichen Ätztechnologie, Lithografie, Epitaxie und Bauelemententwicklung – zu gewinnen und diese gezielt weiterzuentwickeln.Hier sorgen Sie für Veränderung Sie entwickeln und betreiben Prozessierungsverfahren in einer fortgeschrittenen Reinraumumgebung und unterstützen die Epitaxie sowie die Simulation neuartiger Halbleiterbauelemente.Dabei beschäftigen Sie sich unter anderem mit GaN-HEMT-Bauelementen, digitalen Grundschaltungen sowie deren Integration in komplexe Verstärkersysteme.
Gemeinsam mit Ihren Kolleg*innen entwickeln Sie skalierte Prozessmodule weiter und optimieren deren Abläufe und Funktionalität.
Ihre Arbeit ist in spannende nationale und internationale Forschungsprojekte eingebunden, in denen Sie mit Partnern aus Wissenschaft und Industrie zusammenarbeiten.Hiermit bringen Sie sich einErfolgreich abgeschlossenes wissenschaftliches Hochschulstudium (Master oder Diplom) in Physik, Elektrotechnik, Mikrosystemtechnik oder einer vergleichbaren Fachrichtung.
Grundlegende Kenntnisse im Bereich der Halbleiterbauelemente, Festkörperphysik oder Mikro- und Nanotechnologie sowie Interesse an elektronischen Halbleiterbauelementen, deren Prozesstechnologie oder Epitaxie
Idealerweise erste praktische Erfahrungen in der Reinraumprozessierung oder der III-V-Halbleitertechnologie
Selbstständige, strukturierte und wissenschaftliche Arbeitsweise sowie die Fähigkeit, sich schnell in neue Fragestellungen einzuarbeiten
Sehr gute Deutschkenntnisse sowie gute Englischkenntnisse für die Zusammenarbeit in einem internationalen Umfeld
Team- und Kommunikationsfähigkeit sowie Freude an experimenteller Forschungsarbeit
Das solltest du mitbringen
- Gewünschtes Studium
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- Ingenieurwissenschaften
- Naturwissenschaften und Technik
Elektrotechnik & InformationstechnikElectrical Engineering and Information TechnologyPhysikPhysics
- Gesuchter Karrierestatus
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- Promovierende:r
- Deutschsprachniveau
- GER B2
So sieht der Arbeitsplatz aus
- Unternehmensbereich
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- Forschung
- Arbeitszeitmodell
- Vollzeit
- Einzel-/Teamarbeit
- Teamarbeit und/oder Kundenkontakt
- Sprache am Arbeitsplatz
- Deutsch
- Anbindung ÖPNV
- Ja
Unternehmensinformationen
- Art des Unternehmens
- Wissenschaftliche Einrichtung
- Unternehmensbranche
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- Wissenschaft & Forschung
Kontakt
Frau Kathrin EscherFraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF
Tullastraße 72
79108 Freiburg im Breisgau
Deutschland
Tel: +49 761 5159-374
E-Mail: Melden Sie sich bitte an,
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Unternehmensanschrift
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF
Tullastraße 72
79108 Freiburg im BreisgauDeutschland
Telefon: +49 761 5159-374

